2nm研发顺利、3nm持续满载

据估计，台积电第三季与第四季3、5纳米稼动率几乎满载，进入排单阶段，3纳米满载盛况更延续至2025年。另外，台积电透露，N2研发进展顺利，将如期在2025年进入量产、N2P预计在2026年下半年量产。

随着半导体制造工艺节点的不断缩小，对环境洁净度的要求也越来越高，需要管控的污染物已不仅局限在颗粒灰尘及各种悬浮物，而是精确到了气态分子污染物（AMC）。

AMC分类

国内曾统计过，在无洁净级别要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10%~15%，64位储存器仅2%。可见，洁净环境对产品工艺良率的影响巨大。

为了满足对先进工艺的迫切需求和对良率提升的挑战，亿天净化提供的AMC 检测 控制 监测一站式解决方案，可根据客户的需求提供多方面的专业服务，以保障对AMC的严格控制。

AMC 检测

对半导体洁净室进行AMC采样，通过技术诊断分析，确认AMC主要成分及浓度，针对性提出最匹配实际环境需求的解决方案，达到最佳空气净化效果。

AMC 控制

化学过滤器是去除AMC的关键技术。化学过滤器采用了先进的材料和技术，不仅具备出色的选择性吸附能力，而且能够根据污染物的种类和浓度进行定制，以适应不同工艺阶段的需求，确保在各个关键工艺中对AMC的高效去除。

AMC 监测

为了实时掌握AMC含量浓度，确保污染控制的持续稳定性，还需搭建AMC在线监测系统，对洁净室内AMC含量浓度等环境参数进行实时监测，实时掌握空气洁净度的变化趋势，以及任何一次超出控制的异常情况，让污染物在对工艺、产品可能产生不良影响之前就采取措施，清除可能的不良作业、污染源和污染事件。

对AMC污染的控制是一项至关重要和复杂的任务，它涉及多个层级，要求方案精确且全面。除了以上的控制措施，还应该从选址、人员操作、材料设备等源头进行控制，来有效降低AMC的浓度，保证半导体制造过程的稳定性和产品质量的可靠性。